光学膜及其制造方法
授权
摘要
将进行了热处理时在膜面内收缩成为最大的第1方向上的膜在热处理前后的尺寸变化率设为T1(％)、将在膜面内与上述第1方向垂直的第2方向上的膜在热处理前后的尺寸变化率设为T2(％)、将上述热处理设为在100℃相对湿度0％的条件下放置24小时的处理时，光学膜F满足以下的条件式(1)T1<‑0.2％、(2)T2≥0.05％、(3)‑0.4％≤T1+T2<0.0％。
基本信息
专利标题 ：
光学膜及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110082850A
申请号 ：
CN201910087264.8
公开（公告）日 ：
2019-08-02
申请日 ：
2019-01-21
授权号 ：
CN110082850B
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
安达知世最上尚行南条崇
申请人 ：
柯尼卡美能达株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
沈雪
优先权 ：
CN201910087264.8
主分类号 ：
G02B5/30
IPC分类号 ：
G02B5/30
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/30
偏振元件
法律状态
2022-05-17 ：
授权
2019-08-27 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 5/30
申请日 : 20190121
申请日 : 20190121
2019-08-02 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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