光学膜的制造方法
公开
摘要
本发明提供一种方法，该方法包括下述工序：将在长条膜基材(1)的第一主面上以可剥离的方式贴合有保护膜(2)而成的层叠体(8)沿着长度方向辊搬送至剥离部(10)，在剥离部中，将保护膜从膜基材的第一主面剥离，然后在膜基材的第一主面涂布涂敷液。通过该方法，可以提供具备缺陷较少且均匀性优异的涂敷层的光学膜。保护膜的背面的表面电阻优选为1×1011Ω/sq以下。
基本信息
专利标题 ：
光学膜的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114509828A
申请号 ：
CN202111345632.8
公开（公告）日 ：
2022-05-17
申请日 ：
2021-11-15
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
铃木畅小川圭太村上正洋
申请人 ：
日东电工株式会社
申请人地址 ：
日本大阪
代理机构 ：
永新专利商标代理有限公司
代理人 ：
吴倩
优先权 ：
CN202111345632.8
主分类号 ：
G02B1/10
IPC分类号 ：
G02B1/10 G02B1/14 G02F1/1335 G02F1/1337 G02B5/30
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
法律状态
2022-05-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
