光学膜及其制造方法
授权
摘要
本发明提供即使以使其变形的状态于高温高湿环境下保管、也不易在端部产生裂纹的光学膜。一种光学膜，其含有在分子内包含氟原子的聚酰亚胺系高分子，其中，在上述光学膜的端面中利用X射线光电子能谱法测定的氟原子相对于碳原子的原子比(F/C)大于在上述光学膜的将距上述端面1mm的内侧切断而得的截面中利用X射线光电子能谱法测定的氟原子相对于碳原子的原子比(F/C)。
基本信息
专利标题 ：
光学膜及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109790308A
申请号 ：
CN201780059879.9
公开（公告）日 ：
2019-05-21
申请日 ：
2017-09-22
授权号 ：
CN109790308B
授权日 ：
2022-05-06
发明人 ：
池内淳一西幸二朗植田幸治
申请人 ：
住友化学株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
牛蔚然
优先权 ：
CN201780059879.9
主分类号 ：
C08J5/18
IPC分类号 ：
C08J5/18 B23K26/38 B23K26/53 C08K3/22 C08L79/08
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08J
加工；配料的一般工艺过程；不包括在C08B，C08C，C08F，C08G或C08H小类中的后处理
C08J5/00
含有高分子物质的制品或成形材料的制造
C08J5/18
薄膜或片材的制造
法律状态
2022-05-06 ：
授权
2022-05-06 ：
专利申请权、专利权的转移
专利申请权的转移IPC(主分类) : C08J 5/18
登记生效日 : 20220424
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 住友化学株式会社
变更后权利人 : 住友化学株式会社
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本东京都
变更后权利人 : 日本东京都
变更事项 : 申请人
变更后权利人 : 三菱瓦斯化学株式会社
登记生效日 : 20220424
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 住友化学株式会社
变更后权利人 : 住友化学株式会社
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本东京都
变更后权利人 : 日本东京都
变更事项 : 申请人
变更后权利人 : 三菱瓦斯化学株式会社
2019-06-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C08J 5/18
申请日 : 20170922
申请日 : 20170922
2019-05-21 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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