光学补偿膜的制造方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明涉及一种光学补偿膜的制造方法，其步骤为；先提供一PAR polyarylate聚芳酯聚合物；再将此聚合物溶于一非质子性溶剂中以形成聚芳酯聚合物溶液，将此聚芳酯聚合物溶液涂覆于一基材上，并在一适当温度下实质上移除其中的非质子性溶剂，以形成厚度为1μm至20μm的一光学补偿膜。此光学补偿膜具光学异向性，适合使用于光电平面显示器中。
基本信息
专利标题 ：
光学补偿膜的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1959504A
申请号 ：
CN200510118587.7
公开（公告）日 ：
2007-05-09
申请日 ：
2005-10-31
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李光荣王美玲林宜贞庄毓蕙
申请人 ：
力特光电科技股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾桃园县平镇市平东路659巷37号
代理机构 ：
中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
陈肖梅
优先权 ：
CN200510118587.7
主分类号 ：
G02F1/13363
IPC分类号 ：
G02F1/13363
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的，例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置
G02F1/1333
构造上的设备
G02F1/1334
基于聚合物分散型液晶，例如微囊密封型液晶的
G02F1/13363
双折射元件，例如用于光学补偿的
法律状态
2009-01-14 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-07-04 ：
实质审查的生效
2007-05-09 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN1959504A.PDF
PDF下载
