活性能量射线粘合力消失型压敏粘合剂、涂布其的活性能量射线...
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明公开了一种活性能量射线粘合力消失型压敏粘合剂，该压敏粘合剂含有：耐蚀刻性光聚合引发剂、活性能量射线反应性化合物和固化剂；还公开了一种蚀刻化金属体的制造方法，该制造方法包括：(1)利用上述活性能量射线粘合力消失型压敏粘合剂将金属箔与基材膜进行贴附的工序；(2)通过对上述金属箔的选择性蚀刻形成蚀刻金属层的工序；(3)将由基材膜、活性能量射线粘合力消失型压敏粘合剂和蚀刻金属层形成的层合体的蚀刻金属层与绝缘性基板组合的工序；和(4)从上述蚀刻金属层上剥离上述基材膜的工序，在上述工序(1)之后和工序(4)之前的期间内至少进行一次活性能量射线照射。
基本信息
专利标题 ：
活性能量射线粘合力消失型压敏粘合剂、涂布其的活性能量射线粘合力消失型粘合片和蚀刻化金属体的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101031625A
申请号 ：
CN200580033321.0
公开（公告）日 ：
2007-09-05
申请日 ：
2005-09-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
薄井慎一绪方敬三
申请人 ：
东洋油墨制造株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
刘冬
优先权 ：
CN200580033321.0
主分类号 ：
C09J4/00
IPC分类号 ：
C09J4/00 H05K3/20
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09J
黏合剂；一般非机械方面的黏合方法；其他类目不包括的黏合方法；黏合剂材料的应用
C09J4/00
基于至少具有1个可聚合的碳-碳不饱和键的非高分子有机化合物的黏合剂
法律状态
2008-07-02 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-09-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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