旋光4,4－二取代唑烷衍生物及其制备方法
专利权的终止
摘要
本发明提供旋光4，4－二取代唑烷衍生物及其制备方法。具有通式(I)的旋光4，4－二取代唑烷衍生物[其中，R1表示甲酰基、羟甲基、式COOR的基团、卤代甲基、甲基等，R表示C1－C6烷基等，R2表示C1－C6烷基、C3－C10环烷基等，R3表示C2－C6烷酰基、C1－C6烷氧基羰基等，并且R4表示C1－C6烷基或C2－C6烯基]。
基本信息
专利标题 ：
旋光4,4－二取代唑烷衍生物及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101031552A
申请号 ：
CN200580033430.2
公开（公告）日 ：
2007-09-05
申请日 ：
2005-10-26
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
小野田俊彦中村嘉孝山冈诚武田齐大佐藤仙忠神将吉
申请人 ：
三共株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
熊玉兰
优先权 ：
CN200580033430.2
主分类号 ：
C07D263/06
IPC分类号 ：
C07D263/06 C07D413/06
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D263/00
杂环化合物，含有1,3-唑环或氢化1,3-唑环
C07D263/02
不和其他环稠合
C07D263/04
环原子间或环原子与非环原子间没有双键
C07D263/06
有被氧原子取代的烃基连在环碳原子上
法律状态
2017-12-15 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C07D 263/06
申请日 : 20051026
授权公告日 : 20101110
终止日期 : 20161026
申请日 : 20051026
授权公告日 : 20101110
终止日期 : 20161026
2010-11-10 ：
授权
2007-10-31 ：
实质审查的生效
2007-09-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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