具有定向颗粒的化学机械抛光垫修整器及其相关方法
专利申请权、专利权的转移
摘要
本发明是揭露及叙述具有定向于一姿态以控制CMP抛光垫的效能的超研磨颗粒(130，120，110)的CMP抛光垫修整器(100)，以及其相关的方法。该可控制的CMP抛光垫效能可被选择以最佳化CMP抛光垫修整器的效率以及修整器的磨损率。
基本信息
专利标题 ：
具有定向颗粒的化学机械抛光垫修整器及其相关方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101039775A
申请号 ：
CN200580034721.3
公开（公告）日 ：
2007-09-19
申请日 ：
2005-09-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
宋健民
申请人 ：
宋健民
申请人地址 ：
台湾省台北县
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
黄健
优先权 ：
CN200580034721.3
主分类号 ：
B24B1/00
IPC分类号 ：
B24B1/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B1/00
磨削或抛光的工艺；与此工艺有关的所用辅助设备
法律状态
2022-01-11 ：
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : B24B 1/00
登记生效日 : 20211230
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 台湾中国砂轮企业股份有限公司
变更后权利人 : 鸿记工业股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 中国台湾新北市莺歌区中山路64号
变更后权利人 : 中国台湾新北市莺歌区福安街7巷3号
登记生效日 : 20211230
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 台湾中国砂轮企业股份有限公司
变更后权利人 : 鸿记工业股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 中国台湾新北市莺歌区中山路64号
变更后权利人 : 中国台湾新北市莺歌区福安街7巷3号
2022-01-11 ：
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : B24B 1/00
登记生效日 : 20211230
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 宋健民
变更后权利人 : 台湾中国砂轮企业股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 中国台湾台北县
变更后权利人 : 中国台湾新北市莺歌区中山路64号
登记生效日 : 20211230
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 宋健民
变更后权利人 : 台湾中国砂轮企业股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 中国台湾台北县
变更后权利人 : 中国台湾新北市莺歌区中山路64号
2010-12-15 ：
授权
2007-11-14 ：
实质审查的生效
2007-09-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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