硫醇化合物和使用该化合物的光敏组合物与黑色基质抗蚀剂组合...
授权
摘要
本发明涉及由式(1)表示的硫醇化合物、其生产方法，以及涉及其中使用该化合物的光敏组合物和用于滤色器黑色基质的抗蚀剂组合物，该组合物在敏感性方面优异并可保持图案中线宽不变，即达到优异的显影宽容度。(所有符号具有与说明书中所定义的相同的含义。)
基本信息
专利标题 ：
硫醇化合物和使用该化合物的光敏组合物与黑色基质抗蚀剂组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101048372A
申请号 ：
CN200580036423.8
公开（公告）日 ：
2007-10-03
申请日 ：
2005-10-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
镰田博稔大西美奈室伏克己
申请人 ：
昭和电工株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京市中咨律师事务所
代理人 ：
林柏楠
优先权 ：
CN200580036423.8
主分类号 ：
C07C323/52
IPC分类号 ：
C07C323/52 G03F7/00 G03F7/027
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07C
无环或碳环化合物
C07C323/00
被卤素、氧或氮原子或非硫代基硫原子取代的硫醇、硫醚、氢化多硫化物或多硫化物
C07C323/50
硫代基和羧基连接在同一碳架上
C07C323/51
有硫代基的硫原子连接在碳架的非环碳原子上
C07C323/52
碳架是无环的和饱和的
法律状态
2010-05-12 ：
授权
2007-11-28 ：
实质审查的生效
2007-10-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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