硫醇化合物和使用该硫醇化合物的光敏组合物
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摘要
本发明涉及由式(1)表示的硫醇化合物：其中R1，R2和n具有与说明书中相同意义，涉及制备该化合物的方法及使用该化合物的光敏组合物和黑色基质抗蚀剂组合物，这些组合物在碱显影时具有高敏感性和在细线图案中优异的保持线宽的特性，即显影宽容度方面优异。
基本信息
专利标题 ：
硫醇化合物和使用该硫醇化合物的光敏组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101048373A
申请号 ：
CN200580036422.3
公开（公告）日 ：
2007-10-03
申请日 ：
2005-10-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
镰田博稔大西美奈室伏克己
申请人 ：
昭和电工株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京市中咨律师事务所
代理人 ：
林柏楠
优先权 ：
CN200580036422.3
主分类号 ：
C07C323/53
IPC分类号 ：
C07C323/53 G03F7/004 G03F7/00 B41C1/10
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07C
无环或碳环化合物
C07C323/00
被卤素、氧或氮原子或非硫代基硫原子取代的硫醇、硫醚、氢化多硫化物或多硫化物
C07C323/50
硫代基和羧基连接在同一碳架上
C07C323/51
有硫代基的硫原子连接在碳架的非环碳原子上
C07C323/53
碳架是饱和的和含环的
法律状态
2010-02-10 ：
授权
2007-11-28 ：
实质审查的生效
2007-10-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
CN100588648C.PDF
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