光敏组合物清除液
授权
摘要
本发明涉及一种用于清除含颜料的光敏组合物的光敏组合物清除液。该光敏组合物清除液包含亚烷基二醇单烷基醚、芳烃以及一种或多种选自亚烷基二醇单烷基醚羧酸酯、烷氧基羧酸酯、脂环族酮和乙酸酯的溶剂。所述光敏组合物清除液具有优异的光敏组合物清除性能。
基本信息
专利标题 ：
光敏组合物清除液
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101116037A
申请号 ：
CN200680004369.3
公开（公告）日 ：
2008-01-30
申请日 ：
2006-02-09
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
金田昌人三河泰广寺尾浩一
申请人 ：
昭和电工株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京市中咨律师事务所
代理人 ：
林柏楠
优先权 ：
CN200680004369.3
主分类号 ：
G03F7/26
IPC分类号 ：
G03F7/26 G03F7/16 G03F7/42 H01L21/027 G02B5/20 C09D9/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
法律状态
2010-06-23 ：
授权
2008-03-19 ：
实质审查的生效
2008-01-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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