光敏树脂组合物及使用该组合物的光敏干膜

发明专利申请公布后的驳回

摘要

本发明提供了对h－射线高度灵敏并且抗蚀剂图案分辨率优异的、用于h－射线曝光的光敏树脂组合物、以及使用它们的光敏干膜。光敏树脂组合物由如下组成：碱可溶的树脂(A)，其在含羧基的丙烯酸类共聚物的羧基部分中具有包含脂环族环氧基团的不饱和化合物，并且具有1,000－100,000的重均分子量；烯键式不饱和化合物(B)；和光聚合引发剂(C)，其至少包括一种在405nm波长下光吸收系数为1或更大的光聚合引发剂(C1)作为主要组分。

基本信息

专利标题：

光敏树脂组合物及使用该组合物的光敏干膜

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101044434A

申请号：

CN200580036258.6

公开（公告）日：

2007-09-26

申请日：

2005-10-19

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

植松照博胜又直也

申请人：

东京应化工业株式会社

申请人地址：

日本神奈川县

代理机构：

永新专利商标代理有限公司

代理人：

于辉

优先权：

CN200580036258.6

主分类号：

G03F7/032

IPC分类号：

G03F7/032 G03F7/031 G03F7/033

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/004

感光材料

G03F7/027

具有碳—碳双键的非高分子的可光聚合的化合物，例如，乙烯化合物

G03F7/032

含有黏结剂的

法律状态

2011-09-14 ：

发明专利申请公布后的驳回

号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101183805304
IPC(主分类) : G03F 7/032
专利申请号 : 2005800362586
公开日 : 20070926

2007-11-21 ：

实质审查的生效

2007-09-26 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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1、

CN101044434A.PDF

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