聚合物、光敏树脂组合物、图案形成方法、光敏干膜以及电气及...
授权
摘要
本发明的目的在于提供一种聚合物，其易溶于广泛使用且安全的有机溶剂，可溶于碱性水溶液，且能够作为可形成精细图案并能够得到高分辨率的正型光敏树脂组合物的基础树脂而使用。所述聚合物具有聚酰胺、聚酰胺酰亚胺或聚酰亚胺结构单元，其特征在于，所述聚合物选自聚酰胺、聚酰胺酰亚胺、聚酰亚胺、聚酰亚胺前体、聚苯并噁唑、聚苯并噁唑前体，所述聚合物包含二胺与下述通式(3)所表示的四羧酸二酐及下述通式(4)所表示的二羧酸或二羧酸卤化物中的任意一种以上的反应生成物，所述二胺含有下述通式(1)所表示的二胺及通式(2)所表示的二胺中的任意一种以上。[化学式1][化学式2]
[化学式3]
[化学式4]
基本信息
专利标题 ：
聚合物、光敏树脂组合物、图案形成方法、光敏干膜以及电气及电子部件保护用覆膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110790928A
申请号 ：
CN201910708540.8
公开（公告）日 ：
2020-02-14
申请日 ：
2019-08-01
授权号 ：
CN110790928B
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
竹村胜也饭尾匡史浦野宏之本田和也
申请人 ：
信越化学工业株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京路浩知识产权代理有限公司
代理人 ：
张晶
优先权 ：
CN201910708540.8
主分类号 ：
C08G73/10
IPC分类号 ：
C08G73/10 C08J5/18 G03F7/039 C08L79/08
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08G
用碳-碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物
C08G73/00
不包括在C08G12/00到C08G71/00组内的，在高分子主链中形成含氮的键合，有或没有氧或碳键合反应得到的高分子化合物
C08G73/06
在高分子主链中有含氮杂环的缩聚物；聚酰肼；聚酰胺酸或类似的聚酰亚胺母体
C08G73/10
聚酰亚胺；聚酯-酰亚胺；聚酰胺-酰亚胺；聚酰胺酸或类似的聚酰亚胺的母体
法律状态
2022-06-07 ：
授权
2020-03-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C08G 73/10
申请日 : 20190801
申请日 : 20190801
2020-02-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN110790928A.PDF
PDF下载
