光敏组合物
公开
摘要
本申请涉及一种光敏组合物。一种可显影的浮雕前体的光敏组合物，该光敏组合物包括：作为组分E的至少一种烯属不饱和单体；作为组分P的至少一种光引发剂或光引发剂体系；作为组分B的至少一种水溶性和/或水分散性粘合剂；任选地，作为组分A的一种或更多种添加剂，其中组分E包含至少一个离子基团，并且组分E以基于光敏组合物的总重量的0.1wt％至30wt％的量存在。
基本信息
专利标题 ：
光敏组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114563920A
申请号 ：
CN202111432776.7
公开（公告）日 ：
2022-05-31
申请日 ：
2021-11-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
托马斯·保勒尔C·皮奇
申请人 ：
富林特集团德国有限公司
申请人地址 ：
德国斯图加特
代理机构 ：
北京安信方达知识产权代理有限公司
代理人 ：
卓晓曦
优先权 ：
CN202111432776.7
主分类号 ：
G03F7/033
IPC分类号 ：
G03F7/033
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/027
具有碳—碳双键的非高分子的可光聚合的化合物，例如，乙烯化合物
G03F7/032
含有黏结剂的
G03F7/033
通过反应而得到的仅包含碳—碳不饱和键的黏结剂聚合物，例如，乙烯基聚合物
法律状态
2022-05-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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