光敏组合物
公开
摘要

本申请涉及一种光敏组合物。一种可显影的浮雕前体的光敏组合物,该光敏组合物包括:作为组分E的至少一种烯属不饱和单体;作为组分P的至少一种光引发剂或光引发剂体系;作为组分B的至少一种水溶性和/或水分散性粘合剂;任选地,作为组分A的一种或更多种添加剂,其中组分E包含至少一个离子基团,并且组分E以基于光敏组合物的总重量的0.1wt%至30wt%的量存在。

基本信息
专利标题 :
光敏组合物
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114563920A
申请号 :
CN202111432776.7
公开(公告)日 :
2022-05-31
申请日 :
2021-11-29
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
托马斯·保勒尔C·皮奇
申请人 :
富林特集团德国有限公司
申请人地址 :
德国斯图加特
代理机构 :
北京安信方达知识产权代理有限公司
代理人 :
卓晓曦
优先权 :
CN202111432776.7
主分类号 :
G03F7/033
IPC分类号 :
G03F7/033  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/027
具有碳—碳双键的非高分子的可光聚合的化合物,例如,乙烯化合物
G03F7/032
含有黏结剂的
G03F7/033
通过反应而得到的仅包含碳—碳不饱和键的黏结剂聚合物,例如,乙烯基聚合物
法律状态
2022-05-31 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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