可显影的水溶性光敏陶瓷覆层组合物
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要

可在基本上是非氧化气氛中烧制的一种光敏陶瓷层组合物,包括下述组分的混和体:$(a)精细粉碎的陶瓷固体颗粒,具有不大于10m2/g的表面积/重量比,且至少80wt%的颗粒具有1—10μm的尺寸,和$(b)精细粉碎的无机粘结剂颗粒,其玻璃态转变温度为550—825℃,表面积与重量之比不大于10m2/g,且至少90wt%的颗粒具有1—10μm的尺寸,$(b)与(a)重量之比为0.6—2,悬浮于包括下述组分的有机媒介中;$(c)有机聚合物粘结剂,和$(d)光引发物系,溶解在$(e)光硬化单体,和$(f)一种有机媒介中;$&其改进处包括有机聚合物粘结剂含有丙烯酸C1-C10烷基酯,C1-C10甲基丙烯酸酯,苯乙烯,取代苯乙烯或其结合体和烯属不饱和羧碳的共聚或互聚物,其中由不饱和羧酸所产生的粘结剂部分至少占聚合物重的15%,且粘结剂分子是不大于50.000,以及在以成象方式于光化辐射曝光后,该组合物可在1wt%的碳酸钠水溶液中显影。

基本信息
专利标题 :
可显影的水溶性光敏陶瓷覆层组合物
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1039488A
申请号 :
CN89104484.1
公开(公告)日 :
1990-02-07
申请日 :
1989-05-31
授权号 :
CN1037212C
授权日 :
1998-01-28
发明人 :
威谦·约翰·内比詹姆斯·奥斯本
申请人 :
纳幕尔杜邦公司
申请人地址 :
美国特拉华州
代理机构 :
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 :
黄家伟
优先权 :
CN89104484.1
主分类号 :
G03F7/033
IPC分类号 :
G03F7/033  C04B41/83  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/027
具有碳—碳双键的非高分子的可光聚合的化合物,例如,乙烯化合物
G03F7/032
含有黏结剂的
G03F7/033
通过反应而得到的仅包含碳—碳不饱和键的黏结剂聚合物,例如,乙烯基聚合物
法律状态
2000-07-26 :
专利权的终止未缴年费专利权终止
1998-01-28 :
授权
1991-08-28 :
实质审查请求已生效的专利申请
1990-02-07 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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