光敏半水可显影的陶瓷涂层组合物
专利申请的视为撤回
摘要
一种可在基本上非氧化气氛中烧制的光敏陶瓷涂层组合物，它的改进包括含丙烯酸C1～C10烷基酯、异丁烯酸C1～C10烷基脂、苯乙烯和烯属不饱和羧酸的共聚物或互聚物的有机聚合粘结剂；其中在粘结剂中由不饱和羧酸产生的部分占该聚合物的5～小于15％(重量)，粘结剂的分子量不大于100,000，经光化照射成像曝光的该组合物在有机溶剂一水的混合物中可显影。
基本信息
专利标题 ：
光敏半水可显影的陶瓷涂层组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1041045A
申请号 ：
CN89106047.2
公开（公告）日 ：
1990-04-04
申请日 ：
1989-05-31
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
威廉·约翰·内比詹姆斯·奥斯本
申请人 ：
纳幕尔杜邦公司
申请人地址 ：
美国特拉华州
代理机构 ：
中国专利代理有限公司
代理人 ：
黄家伟
优先权 ：
CN89106047.2
主分类号 ：
G03F7/027
IPC分类号 ：
G03F7/027 C09D133/04 C04B41/45
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/027
具有碳—碳双键的非高分子的可光聚合的化合物，例如，乙烯化合物
法律状态
1995-02-15 ：
专利申请的视为撤回
1990-04-04 ：
公开
1990-03-21 ：
实质审查请求
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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