含有过渡金属配位化合物阳离子和硼酸阴离子的光敏组合物及含...
视为撤回的专利申请
摘要
含有阳离子型过渡金属配位化合物和硼酸阴离子的组合物，其中所述的组合物能吸收光化射线并能产生能引发可自由基加成聚合或可交联的单体自由基加成聚合的自由基。这个组合物特别适于作可见光光引发剂。
基本信息
专利标题 ：
含有过渡金属配位化合物阳离子和硼酸阴离子的光敏组合物及含该组合物的光敏材料
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1042723A
申请号 ：
CN89108426.6
公开（公告）日 ：
1990-06-06
申请日 ：
1989-11-06
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
保尔·C·阿保尔帕特·歌特斯彻尔克
申请人 ：
米德公司
申请人地址 ：
美国俄亥俄州
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
董嘉扬
优先权 ：
CN89108426.6
主分类号 ：
C08K5/55
IPC分类号 ：
C08K5/55 G03F7/027
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08K
使用无机物或非高分子有机物作为配料
C08K5/00
使用有机配料
C08K5/55
含硼化合物
法律状态
1992-09-09 ：
视为撤回的专利申请
1990-06-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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