空间光调制器阵列和制造空间光调制器设备的方法
专利权的终止
摘要
为了制造SLM设备，在基板(3)上安装空间光调制器(SLM)(2)，其中基板(3)的材料与要与基板(3)并置的SLM(2)的主要材料相同。特别地，硅基SLM(2)安装在硅基板(3)上。这就形成了SLM(2)阵列，其保持相对于SLM(2)的位置的高精确度和平面性。为了进一步提高平面性，优选通过焊接、使用焊接连接(20)的自对准效应在基板(3)上安装SLM(2)。
基本信息
专利标题 ：
空间光调制器阵列和制造空间光调制器设备的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101057184A
申请号 ：
CN200580038200.5
公开（公告）日 ：
2007-10-17
申请日 ：
2005-11-03
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
马克·A.·德桑贝尔米希尔·德容安东尼厄斯·J.·M.·内利森尼古拉斯·J.·A.·范费恩
申请人 ：
皇家飞利浦电子股份有限公司
申请人地址 ：
荷兰艾恩德霍芬
代理机构 ：
永新专利商标代理有限公司
代理人 ：
王英
优先权 ：
CN200580038200.5
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G02B26/00
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2011-02-02 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101035915400
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2005800382005
申请日 : 20051103
授权公告日 : 20090805
终止日期 : 20091203
号牌文件序号 : 101035915400
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2005800382005
申请日 : 20051103
授权公告日 : 20090805
终止日期 : 20091203
2009-08-05 ：
授权
2008-01-16 ：
实质审查的生效
2007-10-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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