形成用于光刻转印的准直UV光线的方法和设备
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明提供一种生产用于曝光印刷电路板的准直的UV辐射的改进方法和设备。该方法在于，通过分开多个辐射源上的UV辐射来缩短下游光学装置的光程长，并且，通过使用扫描滑动片来将UV辐射均匀地分布在基底上。
基本信息
专利标题 ：
形成用于光刻转印的准直UV光线的方法和设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101095084A
申请号 ：
CN200580042738.3
公开（公告）日 ：
2007-12-26
申请日 ：
2005-12-13
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
P·多马诺夫斯基
申请人 ：
拉多韦有限公司
申请人地址 ：
德国柏林
代理机构 ：
北京市中咨律师事务所
代理人 ：
杨晓光
优先权 ：
CN200580042738.3
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H05K3/00 G02B6/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2009-10-07 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2008-02-20 ：
实质审查的生效
2007-12-26 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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