挠性软X射线离子发生器
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摘要
本发明是关于一种挠性离子发生器，本发明的离子发生器采用软X射线，包括：头部单元，生成波长为1.2～1.5的软X射线；软X射线保护单元，屏蔽来自该头部单元的软X射线的渗漏；电源控制单元，为该头部单元提供控制信号及控制电压。本发明挠性离子发生器的该头部单元被置于软X射线保护单元的外面，而该挠性离子发生器进一步包括挠性管，保护与该头部单元与电源控制单元连接的高压电缆免受外部的冲击或震动，并让使用者在必要时能以任意角度朝向带电体本体弯曲；第一连接装置，通过连接所述挠性管的一端与所述头部单元，让置于离子发生器的本体内部的窗口所生成的离子对本体带电体进行释放；与第二连接装置，连接所述挠性管的另一端与所述离子发生器本体。本发明的主要特征在于为了防止相邻近的高电压电源线之间发生短路及防止产生相互感应电
基本信息
专利标题 ：
挠性软X射线离子发生器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101147430A
申请号 ：
CN200580049220.2
公开（公告）日 ：
2008-03-19
申请日 ：
2005-10-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
郑容哲李炳洙郑愍昊沈忠韩
申请人 ：
禅才高科技股份有限公司
申请人地址 ：
韩国釜山市
代理机构 ：
北京同立钧成知识产权代理有限公司
代理人 ：
马晶晶
优先权 ：
CN200580049220.2
主分类号 ：
H05F3/06
IPC分类号 ：
H05F3/06
法律状态
2011-06-22 ：
授权
2008-05-14 ：
实质审查的生效
2008-03-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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