干膜的使用方法
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摘要
本发明提供一种干膜的使用方法。首先，提供一干膜压合于一例如晶圆的基板上，该干膜包括一贴附于该基板的光阻层以及一显露的透光载膜。在曝光显影之前，在暗室内清洗该干膜的透光载膜，其清洗方法可包括化学喷洗与去离子水清洗的步骤，藉以清除透光载膜上的残留污染物，同时可去除干膜毛边，以提升后续曝光显影的制程良率。
基本信息
专利标题 ：
干膜的使用方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1996143A
申请号 ：
CN200610002541.3
公开（公告）日 ：
2007-07-11
申请日 ：
2006-01-06
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
曾琮彦黄敏龙蔡骐隆杨敏智
申请人 ：
日月光半导体制造股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾高雄市楠梓加工区经三路26号
代理机构 ：
上海开祺知识产权代理有限公司
代理人 ：
费开逵
优先权 ：
CN200610002541.3
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00 G03F7/26 H01L21/56
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2010-12-08 ：
授权
2007-09-05 ：
实质审查的生效
2007-07-11 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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