内设掩膜层的感光干膜

授权

摘要

本实用新型涉及一种内设掩膜层的感光干膜，它包括保护膜、感光层和掩膜层；所述保护膜覆盖于感光层的一侧表面，所述掩膜层覆盖于感光层的另一侧表面，掩膜层表面印制有特定的掩膜图案，掩膜图案采用遮光颜料印制，图案区域遮挡UV及可见光，非图案区域可透过UV及可见光。本实用新型的目的在于提供一种内设掩膜层的感光干膜，其将柔性掩膜集成于感光干膜内，实现曝光设备简化，提高生产节拍，优化了精细图案的图案转移效果。本实用新型的优点在于：本实用新型将柔性掩膜版集成于感光干膜中，替代光学承载膜层，曝光时无需曝光掩膜，曝光机无需设置真空吸附系统，使曝光机更加简洁，减少了曝光工艺的节拍，增加曝光设备的产能。

基本信息

专利标题：

内设掩膜层的感光干膜

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202022416098.2

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-10-27

授权号：

CN213240798U

授权日：

2021-05-18

发明人：

杨与胜黄巍辉张超华

申请人：

福建金石能源有限公司

申请人地址：

福建省泉州市晋江市经济开发区（五里园）泉源路17号

代理机构：

北京中济纬天专利代理有限公司

代理人：

张磊

优先权：

CN202022416098.2

主分类号：

G03F7/11

IPC分类号：

G03F7/11 G03F1/62