清洗液以及移除等离子体工艺后的残余物的方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
一种移除等离子体工艺后的残余物的方法，先提供一衬底，衬底上至少已形成有一材料层，材料层的材质包括金属。然后，进行含氟等离子体工艺，于材料层表面产生含有前述金属的残余物。继而使用清洗液进行一湿式清洗步骤，以移除残余物，清洗液是由水、稀释的氢氟酸与酸溶液所组成的。
基本信息
专利标题 ：
清洗液以及移除等离子体工艺后的残余物的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101024800A
申请号 ：
CN200610004125.7
公开（公告）日 ：
2007-08-29
申请日 ：
2006-02-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
翁正明林苗均王美琪廖俊雄杨伟成
申请人 ：
联华电子股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾新竹科学工业园区
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
陶凤波
优先权 ：
CN200610004125.7
主分类号 ：
C11D7/08
IPC分类号 ：
C11D7/08 C11D7/26 H01J9/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C11
动物或植物油、脂、脂肪物质或蜡；由此制取的脂肪酸；洗涤剂；蜡烛
C11D
洗涤剂组合物；用单一物质作为洗涤剂；皂或制皂；树脂皂；甘油的回收
C11D7/00
主要以非表面活性化合物为基料的洗涤剂组合物
C11D7/02
无机化合物
C11D7/04
水溶性化合物
C11D7/08
酸
法律状态
2011-04-27 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101082080735
IPC(主分类) : C11D 7/08
专利申请号 : 2006100041257
公开日 : 20070829
号牌文件序号 : 101082080735
IPC(主分类) : C11D 7/08
专利申请号 : 2006100041257
公开日 : 20070829
2007-10-24 ：
实质审查的生效
2007-08-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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