发光装置、发光装置的制作方法、以及电子机器
授权
摘要
本发明提供一种抑制由阻气层的剥离或裂纹引起的水分的浸入的发光装置及其制造方法、以及电子机器。发光装置(1)是，在基体(200)上具备：多个第一电极(23)；具有与第一电极(23)的形成位置对应的多个开口部(221a)的隔壁(221)；在各个开口部(221a)配置的有机功能层(60)；将隔壁(221)以及有机功能层(60)覆盖的第二电极(50)；将第二电极(50)覆盖同时形成平坦的上面的有机缓冲层(210)；将有机缓冲层(210)覆盖的阻气层(30)；和将阻气层(30)的至少外周区域覆盖的外壳加强层(212)。
基本信息
专利标题 ：
发光装置、发光装置的制作方法、以及电子机器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1815751A
申请号 ：
CN200610005955.1
公开（公告）日 ：
2006-08-09
申请日 ：
2006-01-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
林建二
申请人 ：
精工爱普生株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
李香兰
优先权 ：
CN200610005955.1
主分类号 ：
H01L27/32
IPC分类号 ：
H01L27/32 H01L21/82 H05B33/12 H05B33/04 H05B33/10
法律状态
2010-06-09 ：
授权
2006-10-04 ：
实质审查的生效
2006-08-09 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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