液晶显示器的配向膜的制造方法和在其中使用的蚀刻设备
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明公开了一种液晶显示装置的配向膜的制造方法和在其中使用的蚀刻设备。所述方法能够在准确的位置简单地构图配向膜。所述方法包括在基板上形成配向膜，所述基板在对应于用于将电压施加到公共电极的传输电极的位置具有电极焊盘；和在不使用掩模图案的情况下局部地蚀刻配向膜以暴露所述电极焊盘。
基本信息
专利标题 ：
液晶显示器的配向膜的制造方法和在其中使用的蚀刻设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1828393A
申请号 ：
CN200610006093.4
公开（公告）日 ：
2006-09-06
申请日 ：
2006-01-26
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
神谷洋之卢淳俊全柏均
申请人 ：
三星电子株式会社
申请人地址 ：
韩国京畿道
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
陶凤波
优先权 ：
CN200610006093.4
主分类号 ：
G02F1/1337
IPC分类号 ：
G02F1/1337 G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的，例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置
G02F1/1333
构造上的设备
G02F1/1337
液晶分子的表面诱导取向，例如借助列向层
法律状态
2010-01-13 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2008-04-02 ：
实质审查的生效
2006-09-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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