缝隙嘴
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摘要
本发明提供一种缝隙嘴，该缝隙嘴可使在基板上形成的涂膜厚度均一。在嘴半体(1)的与嘴半体(2)相面对的面上形成有涂敷液的第1蓄留部(4)以及第2蓄留部(5)。第1蓄留部(4)按如下方式形成山形，即：宽度方向的中央部最高而两端变低，变得最高的中央部是与涂敷液供给孔(6)相连通的。此外，在变得最高的中央部上连通有排气孔(7)。在上述第1蓄留部(4)的下侧连续形成有第2蓄留部(5)，它的深度是以嘴半体(1)的厚度方向为基准而浅于上述第1蓄留部(4)。将该第2蓄留部(5)的下边设计成嘴半体(1)的宽度方向的中央部最低，随着向两端不断延伸而越来越高的V字状倾斜面(8)。
基本信息
专利标题 ：
缝隙嘴
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1806934A
申请号 ：
CN200610006134.X
公开（公告）日 ：
2006-07-26
申请日 ：
2006-01-19
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
高濑真治山口和伸中西达楫间淳生
申请人 ：
东京応化工业株式会社
申请人地址 ：
日本川崎市
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
温大鹏
优先权 ：
CN200610006134.X
主分类号 ：
B05B1/04
IPC分类号 ：
B05B1/04 B05C5/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B05
一般喷射或雾化；对表面涂覆流体的一般方法
B05B
喷射装置；雾化装置；喷嘴
B05B1/00
带或不带辅助装置，例如阀、加热装置的喷嘴、喷头或其他出口
B05B1/02
适合于产生特殊形状或性质，如单独小滴的喷流，喷雾或其他排射
B05B1/04
平面形，如扇形，片形的
法律状态
2010-08-11 ：
授权
2007-09-19 ：
实质审查的生效
2006-07-26 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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