一种光学补偿膜制法、以及具有该光学补偿膜的偏光板
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明涉及一种光学补偿膜制法，主要是借由在基材上先后积层一光学补偿层与一光阻滞材料所构成。借由本光学补偿膜的光学补偿层材料以紫外线照射以产生交链化学反应的过程中，使其暴露于空气环境(含氧量不低于1％体积百分比浓度)并提供重量百分比浓度为0.5％～10％的光引发剂。因而控制使光学补偿层材料可对基材达成较佳的密着，且同时控制表面残留适量的活性基，而使得后续的光阻滞材料得以顺利密着于光学补偿层上。利用此制法可达到将光学补偿膜直接内建在偏光板上的目的。如此，偏光板不仅因具有光学补偿效果而有较佳视角范围与显示质量，且厚度亦较现有技术相对较低，透光率与光学特性因此也相对较佳。
基本信息
专利标题 ：
一种光学补偿膜制法、以及具有该光学补偿膜的偏光板
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101025455A
申请号 ：
CN200610007840.6
公开（公告）日 ：
2007-08-29
申请日 ：
2006-02-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
洪维泽张清森吴龙海
申请人 ：
力特光电科技股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾
代理机构 ：
北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
孙皓晨
优先权 ：
CN200610007840.6
主分类号 ：
G02B5/30
IPC分类号 ：
G02B5/30 G02B1/10 G02F1/1335
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/30
偏振元件
法律状态
2009-02-25 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-10-24 ：
实质审查的生效
2007-08-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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