图案形成方法、滤色片及其制法、电光学装置及其制法
专利权的终止
摘要

提供基于相对于图案形成区域的液滴的湿润性,决定在该图案形成区域内喷出的液滴容量,而提高图案形状的均匀性、以至生产性的图案形成方法、滤色片的制造方法、滤色片、电光学装置的制造方法及电光学装置。通过有机EL层形成区域S的形状(湿润宽度Wa)及弹落面接触角θ落面(11a)的外缘一致时的液滴(20)从弹落面的厚度(最小容许液滴厚度Hmn);基于最小容许液滴厚度Hmn,决定向有机EL层形成区域S内喷出的下限容量;将向有机EL层形成区域S内喷出的液滴(20)容量,设定成为该下限容量以上。

基本信息
专利标题 :
图案形成方法、滤色片及其制法、电光学装置及其制法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1804669A
申请号 :
CN200610003686.5
公开(公告)日 :
2006-07-19
申请日 :
2006-01-11
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
酒井宽文小森贞治
申请人 :
精工爱普生株式会社
申请人地址 :
日本东京
代理机构 :
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 :
李香兰
优先权 :
CN200610003686.5
主分类号 :
G02B5/20
IPC分类号 :
G02B5/20  H01L27/32  H05B33/00  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/20
滤光片
法律状态
2016-03-02 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101648906047
IPC(主分类) : G02B 5/20
专利号 : ZL2006100036865
申请日 : 20060111
授权公告日 : 20080123
终止日期 : 20150111
2008-01-23 :
授权
2006-09-13 :
实质审查的生效
2006-07-19 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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