一种阴离子型表面活性剂插层铁基水滑石及其制备方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明提供了一种阴离子型表面活性剂插层铁基水滑石及其制备方法，属于铁基多功能有机－无机杂合材料领域。以层状材料LDHs为主体，表面活性剂阴离子为插层客体，通过直接共沉淀法合成得到具有超分子层状结构的有机－无机杂合材料，其化学式分别为：(M2+Fe2+)1－x(Fe3+)x(OH)2(Surf)－a(Bn－)b·mH2O和(M2+)1－x(Fe3+)x(OH)2(Surf)－a(Bn－)b·mH2O。本发明的优点在于：制备了一种新的超分子插层结构功能材料，作为一种基础材料此发明可提供一种催化新材料，还可以作为一种离子交换剂或疏水吸附剂；控制焙烧温度可得到系列产物，包括混合氧化物、尖晶石铁氧体与氧化物的混合物。
基本信息
专利标题 ：
一种阴离子型表面活性剂插层铁基水滑石及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1792808A
申请号 ：
CN200610011123.0
公开（公告）日 ：
2006-06-28
申请日 ：
2006-01-06
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
张慧文杏
申请人 ：
北京化工大学
申请人地址 ：
100029北京市朝阳区北三环东路15号
代理机构 ：
北京科大华谊专利代理事务所
代理人 ：
刘月娥
优先权 ：
CN200610011123.0
主分类号 ：
C01G1/02
IPC分类号 ：
C01G1/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C01
无机化学
C01G
含有不包含在C01D或C01F小类中之金属的化合物
C01G1/00
不包含在C01B、C01C、C01D或C01F小类中之金属化合物的一般制备方法
C01G1/02
氧化物
法律状态
2010-07-21 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101003311934
IPC(主分类) : C01G 1/02
专利申请号 : 2006100111230
公开日 : 20060628
号牌文件序号 : 101003311934
IPC(主分类) : C01G 1/02
专利申请号 : 2006100111230
公开日 : 20060628
2006-08-23 ：
实质审查的生效
2006-06-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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