含双键有机阴离子插层水滑石及将其用作热稳定剂
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明提供了一种含双键的有机阴离子插层水滑石，其化学组成式为：[M2+1－xM3+x(OH)2]An－x/n·mH2O，其中An－是马来酸根、丙稀酸根和丁烯酸根等含双键的有机阴离子。由于含双键的有机阴离子插层水滑石分子中的双键能够和PVC分解产生的共轭双键发生反应，可显著提高PVC的长期热稳定性。经将该水滑石和硬脂酸钙、硬脂酸锌混和后添加到PVC中进行静态热老化实验，结果表明该水滑石可以有效提高PVC的热稳定性，是优良的PVC热稳定剂。
基本信息
专利标题 ：
含双键有机阴离子插层水滑石及将其用作热稳定剂
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1769355A
申请号 ：
CN200510117186.X
公开（公告）日 ：
2006-05-10
申请日 ：
2005-11-03
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
段雪李殿卿林彦军王建荣
申请人 ：
北京化工大学
申请人地址 ：
100029北京市朝阳区北三环东路15号
代理机构 ：
北京思海天达知识产权代理有限公司
代理人 ：
何俊玲
优先权 ：
CN200510117186.X
主分类号 ：
C09C3/08
IPC分类号 ：
C09C3/08 C08K9/04 C08L27/06
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09C
纤维状填料以外的无机材料的处理以增强它们的着色或填充性能；炭黑的制备
C09C3/00
除纤维状填料以外的无机材料的一般处理以增强它们的着色或填充性能
C09C3/08
用低分子有机化合物处理
法律状态
2008-03-19 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-07-05 ：
实质审查的生效
2006-05-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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