自支撑双通纳米氧化铝模板及其制备方法

专利权的终止

摘要

本发明涉及一种自支撑双通纳米氧化铝模板的制备方法，包括：纯度为99.9％－99.999％的铝片清洗，进行化学平整处理；处理后的铝片装入电解槽中，在0－5℃的温度下，0.1－0.4摩尔/升的草酸溶液中进行阳极氧化处理，氧化直流电压为20－200V，氧化时间为10分钟－10小时，用电化学方法去除未氧化的金属铝，去除障碍层和通孔。得到的氧化铝模板直径为2微米－10厘米，孔径为5纳米－200纳米，厚度为0.5微米－200微米，由其所用的铝片支撑。本发明方法可代替传统的制备工艺，使双通纳米氧化铝模板的制备安全、可控、快捷；并为制备易控的超薄超大面积的氧化铝模板提供可能。

基本信息

专利标题：

自支撑双通纳米氧化铝模板及其制备方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1824844A

申请号：

CN200610032879.3

公开（公告）日：

2006-08-30

申请日：

2006-01-16

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

沈培康王振友魏小兰

申请人：

中山大学

申请人地址：

510275广东省广州市新港西路135号

代理机构：

广州粤高专利代理有限公司

代理人：

何淑珍

优先权：

CN200610032879.3

主分类号：

C25D11/04

IPC分类号：

C25D11/04 B82B3/00

IPC结构图谱

C部——化学；冶金

C25

电解或电泳工艺；其所用设备

C25D

覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸；工件的电解法接合；所用的装置

C25D11/00

表面反应，即形成转化层的电解覆层

C25D11/02

阳极氧化

C25D11/04

铝或以其为基之合金的

法律状态

2013-03-27 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101416718177
IPC(主分类) : C25D 11/04
专利号 : ZL2006100328793
申请日 : 20060116
授权公告日 : 20100217
终止日期 : 20120116

2010-02-17 ：

授权

2006-10-25 ：

实质审查的生效

2006-08-30 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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