具有钉扎的铁磁/反铁磁多层膜材料及其制备方法

专利权的终止

摘要

本发明涉及一种具有钉扎的铁磁/反铁磁多层膜材料及其制备方法，该材料采用真空沉积镀膜法和再退火的工艺，制备出包括在基片上依次设置缓冲层、铁磁层和一反铁磁层，或者在缓冲层设置反铁磁层再设置铁磁层和一保护层。该钉扎体系引入L1₀有序相反铁磁(Cr_1－xMn_x)_0.5+δPt_0.5－δ(0.3≤x≤0.6；|δ|＜0.06)作为钉扎材料。该材料相对于已有的反铁磁材料(比如FeMn、IrMn、NiMn和PtMn等)制成的铁磁/反铁磁体系，具有非常好的热稳定性，大的交换偏置场以及优越的抗腐蚀性，加之成分范围广，是另一种非常理想的反铁磁钉扎材料。其制备方法简单，适于工业化生产。

基本信息

专利标题：

具有钉扎的铁磁/反铁磁多层膜材料及其制备方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1845266A

申请号：

CN200610056824.6

公开（公告）日：

2006-10-11

申请日：

2006-03-07

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

倪经蔡建旺

申请人：

中国科学院物理研究所

申请人地址：

100080北京市海淀区中关村南三街8号

代理机构：

北京泛华伟业知识产权代理有限公司

代理人：

高存秀

优先权：

CN200610056824.6

主分类号：

H01F10/32

IPC分类号：

H01F10/32 H01F10/12 H01F10/26 H01F41/22