放射线敏感性树脂组合物、由该组合物形成的凸起体和间隔体，...
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
一种高灵敏度和高分辨率、显影时间短，并且即使在低曝光量下也可以得到充分的间隔体形状，能够形成弹性回复性、耐摩擦性、与透明基板的附着性、耐热性等性能优良的液晶显示元件用间隔体的放射线敏感性树脂组合物。该放射线敏感性树脂组合物包括：[A]通过共聚(a1)不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐、(a2)下式(1)所表示的不饱和化合物、以及(a3)除上述(a1)～(a2)以外的其它不饱和化合物而得到的共聚物，[B]聚合性不饱和化合物，和[C]放射线敏感性聚合引发剂。式中，R1表示氢原子或甲基，R2、R3和R4各自独立地表示氢原子、羟基、碳原子数为1～6的烷基或碳原子数为1～6的烷氧基，并且n是0～6的整数。
基本信息
专利标题 ：
放射线敏感性树脂组合物、由该组合物形成的凸起体和间隔体，以及包含其的液晶显示元件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1841192A
申请号 ：
CN200610079427.0
公开（公告）日 ：
2006-10-04
申请日 ：
2006-03-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
一户大吾浜口仁米仓勇久间俊平西尾寿浩志保浩司梶田彻
申请人 ：
JSR株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
孙秀武
优先权 ：
CN200610079427.0
主分类号 ：
G03F7/004
IPC分类号 ：
G03F7/004 G03F7/20 G03F7/40 G02F1/1339
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
法律状态
2008-12-03 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-10-04 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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