放射线敏感性树脂组合物及液晶显示元件用间隔体
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
一种放射线敏感性树脂组合物，该组合物含有使共聚物(α)和含游离异氰酸酯基不饱和化合物(β)反应而得到的[A]聚合物，所述共聚物(α)是不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐、含羟基不饱和化合物、及其他的不饱和化合物的共聚物，所述的含游离异氰酸酯基不饱和化合物(β)是通过二异氰酸酯化合物和含羟基聚合性不饱和化合物的反应而得到的化合物。该组合物高灵敏度且高分辨率，采用1,200J/m2左右或以下的曝光量也得到充分的间隔体形状，能够形成弹性回复性、耐摩擦性、与基板的附着性、耐热性等优异的液晶显示元件用间隔体。
基本信息
专利标题 ：
放射线敏感性树脂组合物及液晶显示元件用间隔体
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101030036A
申请号 ：
CN200610059403.9
公开（公告）日 ：
2007-09-05
申请日 ：
2006-03-02
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
一户大吾梶田彻
申请人 ：
JSR株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
孙秀武
优先权 ：
CN200610059403.9
主分类号 ：
G03F7/004
IPC分类号 ：
G03F7/004 G03F7/20 G03F7/26 G03F7/00 G02F1/133
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
法律状态
2009-12-23 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-09-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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