感放射线性树脂组合物、凸起和间隔体及液晶显示元件
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要

感放射线性树脂组合物,其含有:不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐;含有环氧基的不饱和化合物;和含有四氢呋喃骨架、呋喃骨架、四氢吡喃骨架、吡喃骨架、内酯骨架、氧化乙烯重复单元数为2~10的聚氧化乙烯骨架或氧化丙烯重复单元数为2~10的聚氧化丙烯骨架的不饱和化合物;除上述化合物以外的烯烃系不饱和化合物的共聚物;以及1,2-重氮醌化合物,并且可用于形成垂直取向型液晶显示元件用的凸起和/或间隔体。该组合物,作为光致抗蚀剂,可以形成析像度和残膜率优异,并且图形形状、耐热性、耐溶剂性、透明性等优异的凸起和间隔体,而且可以制成取向性、电压保持率等优异的垂直取向型液晶显示元件。

基本信息
专利标题 :
感放射线性树脂组合物、凸起和间隔体及液晶显示元件
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1881082A
申请号 :
CN200610067902.2
公开(公告)日 :
2006-12-20
申请日 :
2006-03-14
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
高本英司蓑轮贵树花村政晓三谷浩司
申请人 :
JSR株式会社
申请人地址 :
日本东京都
代理机构 :
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 :
孙秀武
优先权 :
CN200610067902.2
主分类号 :
G03F7/027
IPC分类号 :
G03F7/027  G02F1/1339  G02F1/1333  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/027
具有碳—碳双键的非高分子的可光聚合的化合物,例如,乙烯化合物
法律状态
2008-12-03 :
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-12-20 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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