纳米多层钛硅氮超硬薄膜工模具涂层装置
专利权的终止
摘要
本实用新型公开的纳米多层钛硅氮超硬薄膜工模具涂层装置,是在已有的热阴极离子镀膜机结构的基础上,在其真空蒸镀室室壁四周设置了2~6个磁控溅射源和与之相连的匹配电源。每个磁控溅射源主要由法兰座、壳体、衬板、磁钢、挡块、冷却底板、硅板、压套、密封绝缘件和冷却水嘴等构成。由于本实用新型将离子蒸发镀与磁控溅射二元技术结合为一体,因而既可发挥离子蒸发镀较高离化率,使薄膜组织的致密性、均匀性及粘结强度提高的特点,又解决了已有热阴极离子镀膜机不能蒸发Si材料的技术难题,且绕镀性好,使之能连续交替形成符合使用要求的TiN、SiNx薄膜,是工模具表面改性的一种新型的、具有工业化价值的纳米多层钛硅氮超硬薄膜工模具涂层装置。
基本信息
专利标题 :
纳米多层钛硅氮超硬薄膜工模具涂层装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200620034352.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2006-05-29
授权号 :
CN2910965Y
授权日 :
2007-06-13
发明人 :
赵海波周彤穆建生
申请人 :
赵海波;周彤;穆建生
申请人地址 :
610065四川省成都市磨子桥四川大学(西区)分析测试中心
代理机构 :
成都科海专利事务有限责任公司
代理人 :
唐丽蓉
优先权 :
CN200620034352.X
主分类号 :
C23C14/35
IPC分类号 :
C23C14/35 C23C14/06 C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的,例如磁控溅射
法律状态
2014-07-30 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101583992917
IPC(主分类) : C23C 14/35
专利号 : ZL200620034352X
申请日 : 20060529
授权公告日 : 20070613
终止日期 : 20130529
号牌文件序号 : 101583992917
IPC(主分类) : C23C 14/35
专利号 : ZL200620034352X
申请日 : 20060529
授权公告日 : 20070613
终止日期 : 20130529
2007-06-13 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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