一种钙钛矿薄膜制备装置及其制备的钙钛矿薄膜
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摘要
本实用新型公开了一种钙钛矿薄膜制备装置及其制备的钙钛矿薄膜，属于薄膜制备技术领域，装置包括壳体，壳体内设有多级转台，转台上有用于旋涂钙钛矿前驱体溶液的基底；装置还包括用于收集转台上甩出的钙钛矿前驱体溶液的汇液部件，汇液部件连接有导管，导管另一端设于下级转台上。本实用新型通过汇液部件收集上级转台上甩出的多余钙钛矿前驱体溶液，并通过导管将钙钛矿前驱体溶液导入至下级转台上，实现转台上甩出的钙钛矿前驱体溶液的多级二次利用，大大提高了钙钛矿前驱体溶液利用率，经济性高且对环境友好。其次，通过多级转台能够一次性实现多张钙钛矿薄膜的制备，大大提升了钙钛矿薄膜的制备效率。
基本信息
专利标题 ：
一种钙钛矿薄膜制备装置及其制备的钙钛矿薄膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123049975.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-07
授权号 ：
CN216728015U
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
曹玲玲鲍守珍南辉徐丽丽成世杰梁哲宗冰
申请人 ：
亚洲硅业（青海）股份有限公司;青海亚洲硅业半导体有限公司;青海省亚硅硅材料工程技术有限公司
申请人地址 ：
青海省西宁市经济技术开发区金硅路1号
代理机构 ：
成都华风专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
张巨箭
优先权 ：
CN202123049975.8
主分类号 ：
B05C11/08
IPC分类号 ：
B05C11/08 B05C11/10 B05C13/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B05
一般喷射或雾化；对表面涂覆流体的一般方法
B05C
一般对表面涂布流体的装置
B05C11/00
在B05C1/00至B05C9/00中没有专门列入的部件、零件及附件
B05C11/02
向已经涂布过的表面涂敷或分布液体或其他流体的装置；涂层厚度的控制
B05C11/08
通过操纵工件，如倾斜涂敷液体或其他流体
法律状态
2022-06-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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