金属防磁盖改良结构

专利权的终止

摘要

本实用新型公开了一种金属防磁盖改良结构，其至少包括一屏蔽框部和一上盖，该屏蔽框部周缘设有垂直弯折的折边，该屏蔽框部以该折边结合于电路板上预设位置；该上盖经冲压而凸起于该屏蔽框部顶侧中央部位，于该上盖周缘与屏蔽框部衔接部位设有一冲压折线，且该冲压折线由复数相互间隔的断裂部及较细薄的衔接部组合而成。本实用新型能使上盖与屏遮体结合稳定，且又易于拆卸分离，可有效增进加工效率及质量。

基本信息

专利标题：

金属防磁盖改良结构

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200620050557.7

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2006-04-07

授权号：

CN2891595Y

授权日：

2007-04-18

发明人：

刘启泰

申请人：

刘启泰

申请人地址：

台湾省桃园县龟山乡大坑村一邻南上路400巷2号

代理机构：

长沙正奇专利事务所有限责任公司

代理人：

何为

优先权：

CN200620050557.7

主分类号：

H05K5/03

IPC分类号：

H05K5/03 H05K9/00