本实用新型公开了一种透明导电膜层抛光装置，包括基板固定盘、抛光布固定件、抛光布和驱动机构，抛光布固定在抛光布固定件上，驱动机构用于使抛光布摩擦基板上的透明导电膜层，驱动机构的输出端耦合至抛光布固定件和基板固定盘两者中的任意一个或两个，使抛光布在基板的透明导电膜层表面作平动摩擦运动，或者使抛光布在基板的透明导电膜层表面作平动摩擦运动的同时还绕自身中心轴转动。利用本实用新型对ITO膜层进行软抛光，不仅保证了ITO膜层在10微米*10微米范围内原子力显微镜AFM测得的粗糙度Ra、Rp－v有显著降低，而且保证ITO膜层的电阻均匀性在抛光前后差异很小，保证量产的均匀性和重复性，且简单易行。