高速卷绕多层电容薄膜镀膜机
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
摘要

本实用新型公开了高速卷绕多层电容薄膜镀膜机,包括的真空仓体经隔仓板隔有卷绕室和溅射蒸镀室,其分别通过上真空管路和下真空管路连接各自的真空抽气系统,真空仓体内设有蒸镀鼓,卷绕室设有由PLC程序控制技术控制的由放卷组件、蒸镀鼓和收卷组件组成的薄膜卷绕系统;溅射蒸镀室设有由蒸镀鼓带动屏带辊组件组成的屏带卷绕系统;溅射蒸镀室还设有位于蒸镀鼓下侧的第一、第二磁控溅射平面铝靶、锌蒸发源,且第一、第二磁控溅射平面铝靶位于锌蒸发源的两侧。通过对展平的薄膜经蒸镀鼓通过位于溅射蒸镀室的第一磁控溅射平面铝靶镀一铝层,又经锌蒸发源镀一锌层,再经第二磁控溅射平面铝靶镀一铝氧化层,卷绕回到卷绕室收卷。

基本信息
专利标题 :
高速卷绕多层电容薄膜镀膜机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200620101960.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2006-03-24
授权号 :
CN2910966Y
授权日 :
2007-06-13
发明人 :
潘旭祥林正亮
申请人 :
潘旭祥
申请人地址 :
315211浙江省宁波市镇海区庄市北龙路2005号宁波镇海盈盛电子有限公司
代理机构 :
宁波市天晟知识产权代理有限公司
代理人 :
张文忠
优先权 :
CN200620101960.8
主分类号 :
C23C14/35
IPC分类号 :
C23C14/35  C23C14/56  H01G4/32  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的,例如磁控溅射
法律状态
2009-05-13 :
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
放弃生效日 : 20090506
2007-06-13 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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