利用全息光学镊子处理纳米导线的系统和方法

发明专利申请公布后的视为撤回

摘要

一种在有全息光学陷阱阵列的溶液中用于操作和处理纳米导线的系统和方法。本发明的系统和方法能够建立几百个分别受控的光学陷阱，该陷阱具有沿三维方向操作物体的能力。在单个陷阱没有可辨别影响的条件下，横截面小于20nm和长度超过20μm的各个纳米导线能够被隔离，平移，旋转和沉积到有全息光学陷阱阵列的基片上。被高度聚焦陷阱诱发的空间定域光热和光化学过程还可用于熔化局部区域到各个纳米导线上并熔合纳米导线接合点。

基本信息

专利标题：

利用全息光学镊子处理纳米导线的系统和方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101378985A

申请号：

CN200680002215.0

公开（公告）日：

2009-03-04

申请日：

2006-01-11

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

大卫·G·格里尔里特什·阿加瓦尔于桂华查尔斯·M·利伯库斯塔·拉德维克耶尔·罗伊切曼

申请人：

纽约大学;哈佛大学

申请人地址：

美国纽约

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

蒋世迅

优先权：

CN200680002215.0

主分类号：

B82B3/00

IPC分类号：

B82B3/00 G21K1/00 G03H1/08 H05H3/04

IPC结构图谱

B部——作业；运输

B82

超微技术

B82B

通过操纵单个原子、分子或作为孤立单元的极少量原子或分子的集合而形成的纳米结构；其制造或处理

B82B3/00

通过操纵单个原子、分子或作为孤立单元的极少量原子或分子的集合的纳米结构的制造或处理

法律状态

2011-05-25 ：

发明专利申请公布后的视为撤回

号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101093281895
IPC(主分类) : B82B 3/00
专利申请号 : 2006800022150
公开日 : 20090304

2009-04-29 ：

实质审查的生效

2009-03-04 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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