半导体纳米导线及包括该纳米导线的半导体装置
专利权的终止
摘要
本发明的纳米导线(100),包括多个接触区域(10a、10b)和与多个接触区域(10a、10b)连接的至少一个沟道区域(12)。沟道区域(12)由第1半导体材料形成,沟道区域(12)的表面由在沟道区域(12)上选择性地形成的绝缘层覆盖。多个接触区域(10a、10b)分别由与所述沟道区域(12)的第1半导体材料不同的第2半导体材料形成。接触区域(12)的至少表面具有导电部分。
基本信息
专利标题 :
半导体纳米导线及包括该纳米导线的半导体装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1922720A
申请号 :
CN200580005184.X
公开(公告)日 :
2007-02-28
申请日 :
2005-12-21
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
斋藤彻川岛孝启
申请人 :
松下电器产业株式会社
申请人地址 :
日本大阪府
代理机构 :
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 :
汪惠民
优先权 :
CN200580005184.X
主分类号 :
H01L21/336
IPC分类号 :
H01L21/336 H01L29/786 H01L29/06
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/02
半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21/04
至少具有一个跃变势垒或表面势垒的器件,例如PN结、耗尽层、载体集结层
H01L21/18
器件有由周期表Ⅳ族元素或含有/不含有杂质的AⅢBⅤ族化合物构成的半导体,如掺杂材料
H01L21/334
制造单极型器件的台阶式工艺
H01L21/335
场效应晶体管
H01L21/336
带有绝缘栅的
法律状态
2018-12-07 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : H01L 21/336
申请日 : 20051221
授权公告日 : 20090513
终止日期 : 20171221
申请日 : 20051221
授权公告日 : 20090513
终止日期 : 20171221
2015-09-09 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101720561698
IPC(主分类) : H01L 21/336
专利号 : ZL200580005184X
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 松下电器产业株式会社
变更后权利人 : 株式会社日本有机雷特显示器
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本大阪府
变更后权利人 : 日本东京都
登记生效日 : 20150820
号牌文件序号 : 101720561698
IPC(主分类) : H01L 21/336
专利号 : ZL200580005184X
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 松下电器产业株式会社
变更后权利人 : 株式会社日本有机雷特显示器
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本大阪府
变更后权利人 : 日本东京都
登记生效日 : 20150820
2009-05-13 :
授权
2007-04-25 :
实质审查的生效
2007-02-28 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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