用于制造触头的方法以及真空开关箱的触头
专利权的终止
摘要

本发明涉及一种根据权利要求1前序部分的用于制造触头的方法,该触头用在真空开关箱中,尤其用在低压、中压和高压开关箱中,以及根据权利要求12前序部分的用于中压真空开关箱的触头。为了改善多层接触系统,使得可以使用更大的层厚以改善电特性,按照本发明,触头至少由两层形成,其中在这些层之间敷设焊接箔片,这些层在额定位置上在焊接炉中相互焊接在一起。两层结构也可以通过粉末层叠来获得。为此在压制模型中压出粉末层,然后在炉中烧结为成品的触头坯件。

基本信息
专利标题 :
用于制造触头的方法以及真空开关箱的触头
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101111914A
申请号 :
CN200680003429.X
公开(公告)日 :
2008-01-23
申请日 :
2006-01-24
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
D·根奇冈特·皮尔辛格尔
申请人 :
ABB技术股份公司
申请人地址 :
瑞士苏黎世
代理机构 :
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 :
赵科
优先权 :
CN200680003429.X
主分类号 :
H01H33/66
IPC分类号 :
H01H33/66  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01H
电开关;继电器;选择器;紧急保护装置
H01H33/00
带有灭弧或防弧装置的高压或大电流开关
H01H33/60
不包括单独为产生或增强灭弧流体流动装置的开关灭弧或防弧装置的开关
H01H33/66
真空开关
法律状态
2018-02-09 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : H01H 33/66
申请日 : 20060124
授权公告日 : 20140219
终止日期 : 20170124
2014-02-19 :
授权
2008-03-12 :
实质审查的生效
2008-01-23 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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