用于X射线投影的校正或扩展的设备和方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要

本发明涉及一种用于为了产生对象的重建图像而对所述对象的X射线投影的数据组进行迭代散射校正的设备。特别用于对由X射线投影的散射或截断引起的伪像进行的校正,该设备要求较少的计算耗费从而允许实时校正,该设备建议包括:模型估计单元(41),用于通过迭代优化前向投影对于相应X射线投影的偏差来估计所述对象的对象模型的模型参数,所述的前向投影通过使用所述对象模型和用于所述X射线投影的几何结构参数来计算,散射估计单元(42),用于通过使用所述对象模型来估计在所述X射线投影中存在的散射量,以及校正单元(43),用于通过从所述X射线投影中减去估计的散射量来校正所述X射线投影,以使用所述校正的X射线投影来确定优化的对象模型,所述优化的对象模型用于所述散射校正的另一个迭代中,所述散射校正被迭代执行直到达到了预定的停止标准。

基本信息
专利标题 :
用于X射线投影的校正或扩展的设备和方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101111758A
申请号 :
CN200680003751.2
公开(公告)日 :
2008-01-23
申请日 :
2006-01-31
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
M·伯特拉姆J·韦格特
申请人 :
皇家飞利浦电子股份有限公司
申请人地址 :
荷兰艾恩德霍芬
代理机构 :
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 :
龚海军
优先权 :
CN200680003751.2
主分类号 :
G01N23/04
IPC分类号 :
G01N23/04  G06T11/00  A61B6/03  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料,例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/02
通过使辐射透过材料
G01N23/04
并形成材料的图片
法律状态
2011-01-19 :
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101063087727
IPC(主分类) : G01N 23/04
专利申请号 : 2006800037512
公开日 : 20080123
2008-04-02 :
实质审查的生效
2008-01-23 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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