用于X射线投影的伪像校正的设备和方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明涉及一种用于为了产生对象的重建图像对所述对象的X射线投影的数据组进行伪像校正的设备。特别对于由例如散射、错误的截断扩展因子或错误的增益因子引起深拉或反深拉(称为压盖)形状的空间上缓慢变化的不均匀的伪像校正，设备建议包括：估计单元(41)，用于在X射线投影(11)中使用至少一个估计参数来估计在所述X射线投影中存在的伪像数量，校正单元(41)，用于通过使用所述估计来校正在X射线投影(11)中存在的所述伪像，重建单元(42)，用于通过使用包括所述已校正的X射线投影的所述X射线投影的数据组(10)来产生中间重建图像，以及评价单元(43)，用于通过确定在所述中间重建图像中的不均匀的定量测量来评价所述校正，和用于通过使用由所述定量测量确定的已调整的估计参数来迭代地重复所述校正直到达到预先设定的停止标准，来优化所述校正。
基本信息
专利标题 ：
用于X射线投影的伪像校正的设备和方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101095165A
申请号 ：
CN200580045585.8
公开（公告）日 ：
2007-12-26
申请日 ：
2005-12-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
M·伯特拉姆D·谢弗J·韦格特
申请人 ：
皇家飞利浦电子股份有限公司
申请人地址 ：
荷兰艾恩德霍芬
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
龚海军
优先权 ：
CN200580045585.8
主分类号 ：
G06T11/00
IPC分类号 ：
G06T11/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算；推算或计数
G06T
一般的图像数据处理或产生
G06T11/00
2D图像的生成
法律状态
2009-09-23 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2008-02-27 ：
实质审查的生效
2007-12-26 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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