利用低VOC硅烷的填料处理
专利权的终止
摘要
一种处理填充材料的方法，其包括使填充材料与硅烷接触，所述硅烷在水解时产生硅烷的含硅水解产物和/或基本不产生显著量的挥发性有机化合物，从而提供处理过的填料，然后可将该处理过的填料引入到基质内以提供复合体。
基本信息
专利标题 ：
利用低VOC硅烷的填料处理
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101124274A
申请号 ：
CN200680004383.3
公开（公告）日 ：
2008-02-13
申请日 ：
2006-02-07
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
基思·韦勒
申请人 ：
莫门蒂夫功能性材料公司
申请人地址 ：
美国纽约
代理机构 ：
中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
王海川
优先权 ：
CN200680004383.3
主分类号 ：
C08K9/06
IPC分类号 ：
C08K9/06
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08K
使用无机物或非高分子有机物作为配料
C08K9/00
使用预处理的配料
C08K9/04
用有机物质处理的配料
C08K9/06
用含硅化合物
法律状态
2021-01-15 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C08K 9/06
申请日 : 20060207
授权公告日 : 20111221
终止日期 : 20200207
申请日 : 20060207
授权公告日 : 20111221
终止日期 : 20200207
2011-12-21 ：
授权
2008-04-09 ：
实质审查的生效
2008-02-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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