真空部件的制造方法、树脂被膜形成装置及真空成膜系统
授权
摘要
本发明提供一种对形状复杂的内部通路可容易地形成树脂被膜的真空部件制造方法及树脂被膜形成装置。本发明涉及的树脂被膜形成装置(21)，具有：单体蒸气的供给部(23)、输送单体蒸气的真空排气管线(24)、与真空排气管线(24)的一部分上设置的真空部件(22A)的内部通路可连接的连接部(24C)、在与该连接部(24C)连接的真空部件(22A)的内部通路上使上述单体蒸气附着、形成树脂被膜的部件温度调节机构(31)。通过该构成，仅通过将真空部件(22A)的内部通路暴露于单体蒸气中，就可在该内部通路上以均匀而且高的被覆性形成树脂被膜。
基本信息
专利标题 ：
真空部件的制造方法、树脂被膜形成装置及真空成膜系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101115860A
申请号 ：
CN200680004400.3
公开（公告）日 ：
2008-01-30
申请日 ：
2006-03-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
畠中正信高桥善和石川道夫中村文生
申请人 ：
株式会社爱发科
申请人地址 ：
日本神奈川
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
王健
优先权 ：
CN200680004400.3
主分类号 ：
C23C14/12
IPC分类号 ：
C23C14/12 C23C16/44 C08G73/10
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/06
以镀层材料为特征的
C23C14/12
有机材料
法律状态
2011-08-24 ：
授权
2008-03-19 ：
实质审查的生效
2008-01-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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