X射线系统中的剂量率控制
授权
摘要
一种用于控制X射线系统的剂量率(曝光kV管电压)的控制器，其中，测量实际剂量率，将其与最佳剂量率比较，所得的差值被送给模块(20)(如PID模块)，该模块被配置为(通过调整曝光kV电压)调整剂量率，以最小化差值。不需要在曝光前键入预设的参数。
基本信息
专利标题 ：
X射线系统中的剂量率控制
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101115442A
申请号 ：
CN200680004582.4
公开（公告）日 ：
2008-01-30
申请日 ：
2006-02-02
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
R·赫斯R·斯泰纳
申请人 ：
皇家飞利浦电子股份有限公司
申请人地址 ：
荷兰艾恩德霍芬
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
龚海军
优先权 ：
CN200680004582.4
主分类号 ：
A61B6/00
IPC分类号 ：
A61B6/00 H05G1/32
相关图片
IPC结构图谱
A
A部——人类生活必需
A61
医学或兽医学；卫生学
A61B
诊断；外科；鉴定
A61B6/00
用于放射诊断的仪器，如与放射治疗设备相结合的
法律状态
2011-01-19 ：
授权
2008-04-09 ：
实质审查的生效
2008-01-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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