用于制造多层体的方法及多层体
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摘要
本发明涉及用于制造多层体(100)的方法，所述多层体(100)具有部分成形的第一层(3m)。其中设定，在所述方法中，将具有各个结构元件的大的深度－宽度比尤其是深度－宽度比＞0.3的第一凸纹结构成形到多层体(100)的复制层(3)的第一区域(5)中，并将第一层(3m)以恒定的表面密度涂布到复制层(3)上第一区域(5)和第二区域(4，6)中，在第二区域中第一凸纹结构不成形到复制层(3)中，并且根据第一凸纹结构部分去除第一层(3m)，以便第一层(3m)在第一区域(5)中去除但在第二区域(4、6)不去除，或在第二区域(4、6)中部分去除但在第一区域(5)中不去除。
基本信息
专利标题 ：
用于制造多层体的方法及多层体
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101166633A
申请号 ：
CN200680006666.1
公开（公告）日 ：
2008-04-23
申请日 ：
2006-02-09
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
R·施陶布W·R·特普金A·席林
申请人 ：
OVD基尼格拉姆股份公司
申请人地址 ：
瑞士楚格
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
谢志刚
优先权 ：
CN200680006666.1
主分类号 ：
B42D15/10
IPC分类号 ：
B42D15/10
法律状态
2009-05-27 ：
授权
2008-06-18 ：
实质审查的生效
2008-04-23 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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