用于原位合成毫微粒阵列的系统和方法

发明专利申请公布后的视为撤回

摘要

一种用于原位形成毫微粒(520)的方法包括：将来自打印头的第一毫微粒反应物(160，300，304，308)沉积到期望的衬底(170)上；并且将来自所述打印头的第二毫微粒反应物(160，300，304，308)基本上沉积到所述第一反应物(160，300，304，308)上，其中所述第一毫微粒反应物(160，300，304，308)被配置为与所述第二毫微粒反应物(160，300，304，308)反应以形成毫微粒(520)。

基本信息

专利标题：

用于原位合成毫微粒阵列的系统和方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101137936A

申请号：

CN200680007867.3

公开（公告）日：

2008-03-05

申请日：

2006-01-24

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

J·J·卡特格纳德赫苏斯

申请人：

惠普开发有限公司

申请人地址：

美国德克萨斯州

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

王岳

优先权：

CN200680007867.3

主分类号：

G03F7/00

IPC分类号：

G03F7/00

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

法律状态

2011-03-23 ：

发明专利申请公布后的视为撤回

号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101077490034
IPC(主分类) : G03F 7/00
专利申请号 : 2006800078673
公开日 : 20080305

2008-04-30 ：

实质审查的生效

2008-03-05 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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