蒸发液体形成薄膜的蒸发器及方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
一种蒸发器(10)，包括液体的入口(12)以及气体的出口(14)，控制气体流到蒸发器(10)出口(14)的气体阀(16)，以及将在液体入口(12)与气体阀(16)之间流动的液体加热的装置。所述蒸发器(10)还包括将液体入口与气体阀之间流动的液体的热传递速率增加并使液体产生压力降的装置(18)，从而液体在到达气体阀后压力下降到液体的蒸气相变压力以下。在等温的状态下出现压降，并且仅在阀(16)打开时根据需要蒸发液体。增加热传递速率和产生压力降的装置(18)可以是多孔介质塞。
基本信息
专利标题 ：
蒸发液体形成薄膜的蒸发器及方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101171368A
申请号 ：
CN200680015728.5
公开（公告）日 ：
2008-04-30
申请日 ：
2006-03-03
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
P·梅内吉尼A·沙吉D·史密斯W·克拉克
申请人 ：
MKS仪器公司
申请人地址 ：
美国马萨诸塞
代理机构 ：
永新专利商标代理有限公司
代理人 ：
蔡胜利
优先权 ：
CN200680015728.5
主分类号 ：
C23C16/448
IPC分类号 ：
C23C16/448 C23C16/455 B01B1/00
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/448
产生反应气流的方法，例如通过母体材料的蒸发或升华
法律状态
2010-08-25 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101006990315
IPC(主分类) : C23C 16/448
专利申请号 : 2006800157285
公开日 : 20080430
号牌文件序号 : 101006990315
IPC(主分类) : C23C 16/448
专利申请号 : 2006800157285
公开日 : 20080430
2008-06-25 ：
实质审查的生效
2008-04-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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